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我们是谁
您可信赖的伙伴
作为抛光垫和调节器制造领域的专家,我们以技术创新和品质卓越为驱动力。 我们深知技术的重要性,并将其放在公司发展的核心位置。
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完备生产制造能力 创造无限可能
01
品质保障 卓越追求不懈
02
十载科技路 潜心研发创新
03
服务引领 共赢互助合作
04
产品中心
抛光垫和调节器
我们深入了解客户的工艺需求,并为他们量身定制 合适的技术产品,以满足其独特的生产要求
PlanarPad™抛光垫
CMP抛光垫采用专有的无孔隙抛光垫材料技术 实现了稳定的研磨速率曲线,显著延长抛光垫使用寿命
PlanarDisk™调节器
这款创新设计的金刚石膜调节器无金属污染 具有更长的使用寿命和更优异的缺陷性能
技术服务
确保满足客户需求
我们将继续与客户紧密合作,为他们提供卓越的产品和服务,共同迈向更美好的未来
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质量第一 服务至上
在平坦然(苏州)技术,我们始终把客户的需求和挑战放在首位。通过不断推动技术创新和质量卓越,我们助力客户在竞争激烈的市场中取得竞争优势。我们的产品团队不仅关注产品性能的持续提升,更重视与客户之间的紧密合作
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新闻资讯
带您了解行业动态
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PlanarDisk™ CVD金刚石膜CMP调节器:技术特点与性能优势
07-16
本文介绍PlanarDisk™ CVD金刚石膜CMP调节器的技术原理、五大核心优势及客户验证数据。
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PlanarPad™无孔隙CMP抛光垫 vs 传统多孔抛光垫:性能对比分析
07-16
本文从技术角度对比分析PlanarPad™无孔隙CMP抛光垫与传统多孔抛光垫在研磨速率一致性、使用寿命、平坦化能力和缺陷控制等方面的关键性能差异。
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美光承诺30亿美元强化美国半导体供应链
07-13
美光科技宣布30亿美元新投资计划,其中5亿美元战略注资环球晶圆用于德州硅片厂建设,股价当日上涨7%。
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