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德国光学巨头蔡司（ZEISS）近日在韩国京畿道龙仁市正式开设"ZEISS 半导体创新中心"，这是该公司首次在韩国设立半导体领域研发机构。
该中心将配备顶尖工程师团队，专注于下一代极紫外（EUV）光刻技术的光学系统开发和晶圆检测方案优化，为三星电子、SK海力士等韩国芯片制造商提供先进光学解决方案支持。
蔡司半导体制造技术负责人表示：韩国是全球半导体制造的重要基地，在此设立创新中心将使我们能够更紧密地与客户合作，加速下一代光刻技术的研发和应用。该中心还将与蔡司德国总部的研发网络实现协同。
分析人士指出，随着全球芯片制造工艺持续向更先进节点推进，EUV光刻技术的重要性日益凸显。蔡司在韩国设立研发中心将进一步巩固其在半导体光刻领域的技术优势。
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